超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)

簡要描述：納米氧化鋅的分散難點(diǎn)：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中，容易出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象，導(dǎo)致物料粒徑變大，分散效果不佳，產(chǎn)品改性不充分。

如果使用普通的分散設(shè)備，很難將納米氧化鋅分散均勻，會(huì)出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象，團(tuán)聚體難以打開，而如果采用CIK研發(fā)的分散設(shè)備，研磨分散機(jī)的話，先研磨后分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題，可達(dá)納米氧化鋅還原至納米級(jí)。

產(chǎn)品型號(hào)： NKD2000

所屬分類：超高速分散機(jī)

更新時(shí)間：2025-11-16

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詳細(xì)說明：

超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無機(jī)產(chǎn)品，表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì)，如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等，利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能，可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。

納米氧化鋅的分散難點(diǎn)：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中，容易出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象，導(dǎo)致物料粒徑變大，分散效果不佳，產(chǎn)品改性不充分。

如果使用普通的分散設(shè)備，很難將納米氧化鋅分散均勻，會(huì)出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象，團(tuán)聚體難以打開，而如果采用CIK研發(fā)的分散設(shè)備，研磨分散機(jī)的話，先研磨后分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題，可達(dá)納米氧化鋅還原至納米級(jí)。

CIK研磨式分散機(jī)，是由膠體磨+分散機(jī)結(jié)合而成的設(shè)備，主要是為了解決納米級(jí)物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級(jí)物料的分散。

NKD2000系列研磨分散設(shè)備是CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

NKD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：